在IC设计流程中,LVS是指Layout vs. Schematic,即版图和原理图比对。IC设计后端LVS是在版图完成后,通过比对版图和电路原理图中的元件位置、连线等信息,以确保版图和I/O延迟正确,并且符合电路设计规范。LVS是IC产业中重要的质量控制环节之一,能够发现制造流程中的一些缺陷,避免产品在后续成品测试中出现问题。
IC设计后端LVS主要分为三个步骤,包括版图抽取、网表提取和版图和电路图比对:
首先是版图抽取,将设计图形转换成版图,建立版图数据库。
接着是网表提取,使用版图数据库和电路图提取出电路元器件之间的关系,形成LC级的逻辑网表。
最后是版图和电路图比对,将版图和网表进行比对,检查版图是否正确描述了电路图。
IC设计后端LVS的作用是确保版图和电路图之间的一致性。通过LVS检测,能够减少芯片在制造后被测到的故障,并且能够提高产品的可靠性。
在LVS过程中,可以快速检查出布局中的误差,标志着布局是否达到设计原则。检查完成后,可以及时回到原始设计图中进行必要的修改,以便最终产品能够达到预期目标。
目前市面上常用的IC设计后端LVS工具有Calibre和Hercules。Calibre是Mentor Graphics公司开发的,支持全面的LVS检查,性能稳定,易于使用。而Hercules是Silvaco公司开发的,支持多种LVS规则,同时具有SPICE模型的可靠性检查和热分析的功能。