光阻是一种半导体制造过程中使用的化学物质,通常是一种涂布在硅片表面的光敏聚合物,它可以用来定义芯片的图形和结构。
在半导体工艺中,光阻主要用来制作掩膜。掩膜是用于定义后续步骤的图形,一次曝光后,它可以保留或去除覆盖区域的光阻。这一步将在芯片制造的所有阶段中重复进行数百次。
在不同的半导体工艺中,涂覆不同的光阻。根据其化学形式,光阻可以分为几种:
① 基础光阻:由具有光敏特性的单体聚合成的线性或分支聚合物形成。
② 扩散增感光阻:在基础光阻中加入增感剂,可以增加曝光灵敏度,从而在曝光时间和曝光能量水平较低的情况下提高操作效率。
③ 多层光阻:根据制造工艺的需要,堆叠不同类型的光阻。
在半导体工艺中,使用光阻制定图形的过程可以描述为以下步骤:
1)将硅片表面涂覆上一层光阻;
2)在光阻表面上通过掩膜所形成的图形,通过紫外线曝光将光阻暴露在图形部分;
3)在暴露的区域中将光阻去除;
4)在未暴露的区域中进行硅片的加工过程(如化学浸蚀等)。
光阻被广泛应用于半导体制造,从芯片制造到平板显示器到LED制造等领域。它是高分辨率制造的基础。除此之外,光阻还可用于印刷电路板和MEMS制造,以及其他需要制定精密图案的行业和领域。