在半导体制造领域中,纳米级别的工艺是指集成电路晶体管上的导电通道的最小尺寸。28纳米工艺是指电路元器件中的金属互连线宽度、晶体管栅长等尺寸细节达到了28纳米。
相对于早期的45纳米工艺,28纳米工艺的优势表现在以下几个方面:
首先,28纳米工艺可以实现更高的集成度,意味着芯片可以容纳更多的晶体管,从而提高性能。
第二,28纳米工艺可以显著降低功耗,这得益于新工艺采用的高介电常数材料和低电阻金属来代替早期工艺中的材料,从而降低了电阻和信号传输的损耗。
第三,28纳米工艺可以打造更小的芯片,进而可以将更多的智能化功能融入到小型的电子设备中,如智能手机、平板电脑等。
28纳米工艺可以应用于适当缩小的集成电路中,目前已应用于计算机处理器、图像处理器、数字信号处理器、嵌入式处理器、FPGA芯片、DRAM、SRAM和闪存等芯片的制造中。
随着人工智能、物联网等新兴技术的逐步成熟,对芯片性能和功耗的需求也越来越高,28纳米工艺将愈加成为目前半导体行业中应用最为广泛的工艺之一。未来,随着5G技术的应用、车联网、智能家居等领域的逐渐兴起,将会迎来更广泛的发展空间和应用场景。