半导体是指电阻介于导体和绝缘体之间的材料。其电性质受载流子密度的控制,可以通过控制外加电压或外加光照等方式来控制其导电性能。半导体材料常见的有硅(Si)、锗(Ge)、砷化镓(GaAs)等,其中硅是用来制造CPU的主要材料。
半导体具有自由电子和空穴,电子可以漂浮在半导体中,产生导电行为,而空穴的移动也可以用来控制电子。
PN结是由P型半导体和N型半导体组成的结构,其中P型半导体富含空穴,N型半导体富含电子。PN结具有单向导电性,只能从P型半导体向N型半导体导通,而不能反过来导通。
CPU中主要利用PN结的单向导电性来制作逻辑门和存储电路,例如使用PN结的开关控制器来控制电流,实现逻辑操作,使用PN结形成的存储单元来存储信息,实现计算功能。
CMOS工艺是一种将P型半导体和N型半导体结合在一起制造器件的技术。通过不同掺杂的半导体材料组合形成N型场效应晶体管和P型场效应晶体管,构成数字逻辑电路。
CMOS工艺的主要应用领域是数字集成电路。在CPU中,利用CMOS工艺可以制造出高速、低功耗的异或门、与门、或门等基本逻辑,进而构建计算单元和控制单元,实现各种复杂的计算任务。
光刻技术是制造CPU中半导体芯片的核心技术之一。该技术是利用光学技术将芯片的电路图案投影到半导体上,通过控制光照强度和方向,形成精确的电路结构。
光刻技术的发展对CPU的制造产生了重大影响,可以实现更高的集成度和更小的电路尺寸,提升CPU的计算能力和性能。