在AD中,我们使用铺铜功能为电路板定义地面、电源等电路网的引出。其中,铺铜时边框圆弧的填充是一项常见任务。
实际上,铺铜的原理是连续地填充封闭电路,直到连接周边铜层或其他电路网为止。铺铜的过程是将一层铜薄膜与电路板表面连接起来,以使电路板表面上的每个点都与至少一层铜薄膜相连。
铺铜过程中,边框圆弧的填充原理与铺铜网格的决策有关。当铺铜网格的大小大于圆弧半径时,边框圆弧可以正常铺铜填充。然而,如果网格大小小于圆弧半径,铺铜就无法完全填满圆弧,造成边框圆弧填充不满的问题。
在铺铜边框圆弧时,还有许多因素会影响边框圆弧格子的铺铜。下面列举了一些主要因素:
1)铺铜格子的大小
2)圆弧的半径
3)电路板分辨率
4)铺铜网格的方向决策
5)边框圆弧所在位置
由于这些因素的复杂组合,边框圆弧填充不满是一项常见的问题。
对于这个问题,有几种可能的解决方法:
1)使用更高的分辨率
使用更高的分辨率会增加铺铜的精度,从而更好地填充圆弧。但是,这会增加计算机的负荷。
2)调整铺铜网格
调整铺铜网格以确保它们大于圆弧半径也可以解决这个问题。
3)手动填充铜
使用手动填充铜的技巧,可以将铜铺满整个圆弧区域,使其更紧凑,确保它们之间没有间隙。
总之,为了解决填充不满的问题,需要识别其来源并采取适当措施。