溅镀为什么使用ar离子 为什么溅镀要用AR离子？

1、提高膜质量

在溅射镀膜时，目标材料会释放出大量的中性粒子，这些粒子会与沉积在物体表面的薄膜发生碰撞，从而导致薄膜的质量下降，如表面粗糙度、密实度、附着力等问题。而使用Ar离子轰击能够将这些中性粒子击落，从而减少沉积在膜中的杂质，提高膜的质量。

同时，使用有气氛的Ar离子轰击可以促进蒸发物在靶面的扩散，增加膜的均匀度，从而得到更为优良的膜层质量。

2、控制膜层厚度和成分

利用Ar离子轰击镀膜过程中，通过调整Ar离子轰击能量和电流密度，可以很容易地在制备薄膜时精确控制沉积速率，从而得到精确的膜层厚度。

此外，由于Ar离子轰击能力较强，它可以消除蒸发材料表面氧化物、硝化物和碳氧化物等，从而得到纯净的沉积薄膜，保证膜层成分的准确性。

3、增加膜层附着力

使用Ar离子轰击能够增加薄膜与基底之间的化学键的存在，增强膜层与基底之间的附着力，减少膜层的剥落率。

除此之外，表面粗糙度、压应力等因素都会影响薄膜的附着力，而使用Ar离子轰击还能通过调节Ar离子的轰击强度和时间来消除或减缓表面缺陷和压应力，从而提高膜层的附着力。

4、提高沉积效率和速率

在溅射过程中，Ar离子轰击可以帮助加速蒸发物质粒子的扩散速度，从而达到提高沉积效率和速率的目的，这对于工业应用具有广泛的意义。

此外，Ar离子轰击可以消除靶材表面的积累，防止溅射过程中靶材表面粒子的堆积，提高靶材的利用率和溅射沉积效果。