负性光阻的曝光是通过紫外线对受光区域进行化学反应来实现的。如果光源不均匀,那么某些区域的光照强度可能会比其他地方强或弱,这会导致对于实现一致或高精度的图案,很难达到预期的结果。
而且,曝光时间也会对负性光阻的精度产生重要影响。如果曝光时间太短,那么光阻中的化学反应将不会全部发生,从而导致未能完全形成受光区域,形成的图案尺寸也会相应较小。相应的,如果曝光时间过长,那么光阻中受光区域化学反应完全,而非受光区域未发生反应,那么形成的图案会超出预期的大小。
在制造负性光阻时,对于原材料的纯度和含量有严格的要求。如果原材料的质量并不是十分理想,那么就有可能产生一些不均匀现象。比如说,有些区域的材料厚度可能会比其他地方更厚一些,有些区域会有杂质等等,这些都会导致负性光阻的精度降低。
负性光阻在显影液中加工,显影液的温度稳定性是影响显影效果的一个重要因素。如果显影液温度过低,那么显影会变的缓慢,有些区域可能会成为过度曝光过的区域,显影效果很差;相反,如果温度过高,显影液会极其活跃,导致未曝光的区域也受到显影,从而导致形成的图案变形,这些因素都会降低我们的成品精度。
由于一些深入或形状复杂的芯片,我们需要极其精细的加工方案来使得负性光阻在精确区域产生化学反应。如果设备或加工工具有磨损或者使用不当导致工具移动不规则,那么就可能导致化学反应只发生在一半以上的区域,而具体哪里发生化学反应,就会相对混乱。这会导致成品的精度相对较低。