mask在半导体领域叫做什么 半导体领域中的mask叫什么？

1、概述

Mask在半导体领域中也叫掩膜，是用于制作芯片的重要工具。掩膜是指覆盖在晶圆上的光刻层，是一种能够屏蔽掉一些光线的物质，从而在芯片的制作过程中让光线只照射到需要加工的部分，从而保证芯片的制作精度。

2、Mask的种类

在半导体制作的过程中，Mask种类分为原位掩模和光刻掩模两种：

原位掩模：又叫直接掩模，是半导体制造过程中的原始掩模，通过激光或电子束直接照射到掩膜上进行加工，在制造大芯片的过程中效率比较低；

光刻掩模：是借由专业的光刻机器对掩膜进行加工处理，从而生产出用于半导体制作的掩模。它可以分为高级掩膜和普通掩膜，高级掩膜使用的是487.2 纳米的波长，而普通掩膜使用的则是365 纳米和248 纳米的波长。

3、Mask的制造过程

Mask的制造过程十分繁琐，如下：

1、原片制备：根据芯片的设计要求，制备掩膜玻璃基板。

2、图案处理：将芯片的设计图案输入至光刻机中进行处理，制作出掩膜的图案。

3、光刻：使用光刻机对前一步生成的掩模图案进行曝光、显影等处理，同时使用特定蚀刻液对玻璃基板进行蚀刻处理。

4、清洗：对处理的掩膜进行清洗处理，确保其完美无瑕。

4、Mask的应用范围

Mask是半导体制作的必要工具，想要生产出高品质的芯片就必须要使用Mask，他被广泛应用于各种领域，比如5G通讯、汽车、人工智能等领域的芯片制造过程中，Mask是不可或缺的一部分。