在恰当的工艺条件下,铜可以沉积在某些物质表面,如金属、半导体或塑料等。铜沉积通常用于制造电高频电路板、集成电路、太阳能电池等领域。沉铜的目的在于保护线路板电路,铜具有较高的电导率和成本效益。
沉铜技术是电路制造行业的生命线。电路板上的铜区域必须非常规律和自平衡。如果电路板上的铜区域不均匀,铜会在氧化物的表面形成小凸起,导致能量损耗。悬浮的铜凸起也可能导致电路板之间短路,影响整个线路板系统的运行。因此,制造中使用沉铜技术,以确保铜可以均匀而有效地在电路板表面沉积。
沉铜的技术过程大致分为以下几个步骤:
第一步,电路板表面要经过特殊的化学处理,以去除任何杂质,保持表面光洁度。
第二步,电路板需要在一个被称为“涂覆”的液体中浸泡,这是一种化学淀积剂,其含有铜离子,如硫酸铜(CuSO4)。这个液体内的铜会在电路板表面化学反应,使电路板的任何电触点沉积铜,增加导电性。
第三步,将沉积的铜表面光洁度和厚度均匀化。这通常通过机械或电子抛光来完成。
沉铜和铜箔都是电路板制造中常用的方法。但两者都有明显的差别。
铜箔是一种金属热压制品,类似于金属箔。作为一种金属箔,铜箔可以从铜锭切割到任何需要的规格和大小。电路板制造中使用铜箔,以覆盖电路板表面,预先准备电路的导电网和铜盲孔。
与铜箔不同,沉铜是一种电化学技术,将铜覆盖在电路板表面。
两种技术之间的主要区别是,铜箔是事先制备好的,它的形状和大小不会改变,但沉铜可以根据需要铺设整个电路板表面,以便在一个更广泛的区域内确保铜的均匀沉积。
沉铜是电路板制造的重要步骤。沉铜技术可确保电路板表面均匀而有效地沉积铜,从而提高设备可靠性和性能。这种技术可以增加电路板的导电性,并消除电路板的任何小凸起或其他表面瑕疵。电路板上的任何凸起都会导致电路板之间的短路,最终影响整个线路板系统的运行。因此,沉铜技术利用了倒置电化学的原理,在显微镜下可视化了厚度,从而确保了准确度和稳定性。