什么是凸版光掩模 凸版印刷中的光掩模是什么？

什么是凸版光掩模

凸版光掩模（photomask），是半导体制造过程中的重要工具之一，是一种玻璃或石英基板上的图案，可以用来制造集成电路、面板、发光二极管、光电子器件等微纳加工产品，是芯片制造中的重要制造环节。

凸版光掩模的制作过程

凸版光掩模的制作过程主要包括：电子设计自动化（EDA）、激光曝光、显影、蚀刻、清洗等多个步骤。在EDA设计阶段，根据产品目标和客户需求，设计出掩模上的图案；之后用激光曝光机对掩模进行曝光，然后在经过显影，显现出掩模上的图案。之后，用蚀刻工艺将非掩模部分蚀去，最后清洗，制作出完整的凸版光掩模。

凸版光掩模的重要性

凸版光掩模在半导体产业中的地位至关重要。它是半导体芯片制作过程中的重要环节，制作出的凸版光掩模将会被用于制备芯片（wafer）。掩模上的图案准确与否，直接影响芯片工艺的可行性和芯片性能的良好性，甚至直接影响芯片的成本和市场竞争力。

凸版光掩模的应用场景

凸版光掩模的应用领域非常广泛，包括集成电路、面板、发光二极管、光电子器件等领域。其中，集成电路的制造是凸版光掩模的主要应用场景之一。凸版光掩模上的图案会在后续加工中，经过多次重复转移，同时将一层层材料叠加在一起，通过凸版光掩模传递出来的图案最终会成为一款芯片的重要组成部分。