固体薄膜材料与制备技术

《固体薄膜材料与制备技术》是20来自08年5月1日科学出版社出版的图书，作者为宁兆元。

本书较全面地介绍了有关薄360百科膜材料制各技术的基具济让附础知识并融入了作者多场年院喜茶游务叫年来在从事薄膜材料场看孙倍研究中所取得的成果。

• 书名 固体薄膜材料与制备技术
• 别名 Thin Solid Film Materials and Preparation Technology
• 作者 宁兆元
• 出版社 科学出版社
• 出版时间 2008年5月1日

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　　《固体薄膜材料与制备技术》较全面地介绍了有关薄膜材料制各技术的基础知识，总结了近年来薄膜材料制备领域的新进展， 并融入了作者多年来在从事薄膜材料研究中所取得的成果。

　　全书共10章，第1章主要介绍了薄膜材料的基本概念、特征，并扼要介绍了薄膜材料的物性和结构的分析方法。第2章和第3章讲述的是有关薄膜制备技术中涉及的基础知识， 包括真空技术和等离子体技术等。第4章和第5章是《固抓者宁预图氢体薄膜材料与制备技术》的重点，着重讨论了制备薄膜材料的物理气相沉积技术和化学气相沉积技术的基本原理和方法，包括蒸发、溅射、离子束、脉冲激光和等离子体化学气相沉积技术，以及分子束比制季外延和液相法生长技术等。第6章讨论了薄膜材料的厚度和沉积速率的检测方法。第7~10章则有选择地介绍了当前国际上研究的几种热点薄膜材料的制各和检测技术，如超低和超高介电常数薄膜、发光薄膜、超硬薄膜、巨磁电阻薄膜等，其目的是使读者进一步了解薄膜材料的广泛应用及其发展方向。

图书目录

　　前言

　　第1章 薄膜的特征

　　1.1 薄膜的定义

　　1.2 表面效应

　　1.3 薄膜的结构和缺陷

　　第2章 真空技术基础

　　2.1 真空的基本概念

　　2.2 气体的动力学描述

　　2.3 气体的流动与抽气

双雷百　　2.4 真空的获得

　　2.5 真空的测量

　　第来自3章 等离子体技术基础

　　3.1 等离子体的基本概念

　　3.2 等离子体的分类

　　3.3 低温等离子体的产生

　　第4章 薄膜的物理气相沉积

　　4.1 蒸发沉积

　　4.2 溅射沉福伯溶细述几照积

　　4.3 离子束沉积

即农在展较伤吗　　4.4 脉冲激光沉积

　　第5章 化学气相沉积

　　5.1 热化学气相沉积

　　5.2 等离子体化学气丝为实氢束祖需确相沉积

　　5.3 高密度等离子体化学气相沉积

　　5.4 其他化学气相沉积

　　第6章 膜360百科厚和沉积速率的测量

　　6.1 光学法

　　6.2 天八烟法鲁称价新活平法

　　6.3 电学方法

　　治息提6.4 表面粗糙度仪法

　　第7章 低介电常数薄膜材料

　　7.1 低介电常数材料的研究背景

　　7.2 碳基低语介电常数薄膜

　　7.3 硅基低介电常数薄膜

　　7.4 SiCOH多孔(超)低介电常数材料的制备与性能

　　第8章 氧化锌薄膜材料

　　8.1 氧化锌祖试破稳如心易晶鲁线薄膜的特性和用途

　　8.2 氧化锌薄膜的制备和光致发光谱

　　第9章 钛酸锶钡铁电多层薄膜

　　9.1 铁电多层薄膜的研究意义

　　9.2 BaTiO3/Ba0.6Sr0.4 TiO3多层薄膜的介电增强效应

　　9.3 界面对BaTiO3/SrTio3多层膜的介电学性质的影响

　　9.4 多层膜的铁电性能

　　第10章 硅基颗粒械易接心首江乎复合发光薄膜

　　10.1 硅基发光材料研究的意义及历史

　　10.2 硅基颗粒复合发光薄膜的制备

　　10.3 Si-SiO2和Ge-SiO2薄膜的光致发光和电致发光特性

　　参考文献